離子氮化爐與以往靠溶解二氧化氮或者使用氰 化氫去進行滲氮處理的辦法迥然不同，作為一種一個全新的滲氮處理方式，已廣泛應用于車輛、機械設備、儀器儀表、擠壓加工機、磨具等很多行業(yè)，并且其應用領域依然在日漸擴張。

離子氮化爐的優(yōu)勢：

1)離子氮化爐并不是借助化學變化的功效，反而是運用離子化了中氮汽體開展?jié)B氮處理，因此辦公環(huán)境十分清理而無需避免污染的特殊機器設備。2)離子氮化爐運用了離子化了氣體磁控濺射功效，因此與以往滲氮處理對比，可明顯的減少等待時間（正離子滲氮的時間也僅是一般汽體滲氮的時間1/3～1/5）。

3)離子氮化爐運用電弧放電直接向產(chǎn)品工件開展加溫，也不需要特殊的加溫和保溫設備，會獲得均勻溫度遍布，與間接性加熱方法對比加熱效率可以提高2倍左右，實現(xiàn)環(huán)保節(jié)能實際效果（能耗僅是汽體滲氮的40～70％）。

4)離子氮化要在真空中開展，因此可得到無空氣氧化加工的表面，都不會危害被解決工件表面光滑度。并且由于是低溫環(huán)境下進行修復，被解決工件形變量很小，加工后不用再次生產(chǎn)加工。

5)根據(jù)操縱氛圍，可調(diào)化學物質(zhì)層相結(jié)構(gòu)，化學物質(zhì)層延性顯著小于氣體氮化的延性，離子氮化為工件后一道工藝流程。

6)離子氮化從380℃起即可開始滲氮處理，除此之外，對鈦、鈦金屬等材料還可在850℃的高溫環(huán)境開展?jié)B氮處理，因此融入范疇十分廣泛。

7)離子氮化要在氣壓低下以干法刻蝕的形式進行，因此用氣量非常少（僅是汽體滲氮的百分之幾十），可大幅度降低解決成本費。

正離子滲氮爐設備：

離子氮化機器設備一般由自動控制系統(tǒng)、真空燒結(jié)爐體、滲劑汽體配氣系統(tǒng)、真空泵造成和保持系統(tǒng)軟件、真空測量及控制技術(shù)等幾絕大多數(shù)構(gòu)成。

正離子滲氮機器設備為重要的是自動控制系統(tǒng)，依據(jù)自動控制系統(tǒng)電源種類的差異可以分為直流穩(wěn)壓電源（LD系列產(chǎn)品）和高頻脈沖電源（LDMC系列產(chǎn)品）兩類。功率大的高頻脈沖電源自二十世紀九十年代我們所獨自一人產(chǎn)品研發(fā)取得成功至今，通過十多年的發(fā)展趨勢，發(fā)展成了第二代高頻脈沖電源（PN-II），已經(jīng)全方位替代了直流穩(wěn)壓電源，變成正離子滲氮機器設備的佳選擇開關(guān)電源。